中国五纳米光刻技术取得突破(中国3纳米光刻机突破)
2022-12-23 canyinms.com 【 字体:大 中 小 】
中国五纳米光刻技术取得突破,中国3纳米光刻机突破。小编来告诉你更多相关信息。
我国在芯片技术领域需要更多的支持以及发展,毕竟我们已经晚了西方国家很大一步,想要在这方面有所成效就需要有更多的一些投入,而华为自从美国禁令颁布以来就有更多的一些想法,想要研发我们自身中国芯片的一些研制,也是华为掀起来的风潮,现在获得的支持是比较多的。
这一次被美国卡脖子,下一次也可能hi被其他国家卡,也让更多人意识到了技术发展必须依靠自身,不论是哪个国家,合作都不会是永远的,如果他们想反悔的话也仅仅只是一张通告的事情。
在芯片技术的发展上,不仅有企业的发展,也有一些科学研究院的支持,中科院的研制也有了一段时间,现在也有一些比较好的消息传来,他们有了5纳米光刻机关键技术的一些突破。
光刻机一直都是我们芯片研制上最大的一个阻碍,如果能在这方面有所突破的话,就意味着我们的发展将会一马平川,这一项技术的突破是由张子旸团队研发出来的,由于我们在光刻机的研制上其实经验是比较少的,所以我们就采用了另外的一种方式。
现在开发了一种新型的结构,这种技术可以实现双激光光束的交叠,这样的话就能够在密度以及波长上进行更为精确的控制。
由于本身光刻机的研制我们就不擅长,所以如果按照传统的发展模式的话,我们需要有更多的一些发展,但如果我们采取另一种方式,说不定会更快。
这一新型技术的实验结果也表明了,在线面上将精确度精确到5纳米,5纳米芯片技术的研制是现在荷兰才能掌握的技术,如果我们能够在这方面有所突破的话,也就意味着我们可以有更好的发展。
这关键技术的功课也意味着西方国家的垄断模式可能即将被打破,现在既然证明了这一方法可行,也就是说我们能够有更多的一些能力提升了,还请大家做一些更多的关注。
国家发展的强大自然离不开各个领域的一些支持,而现在我们有了这样的发展,相信也会有更多的一些成效。
好了今天就为大家介绍到这里,我们下一期再见!
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